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FISCHERSCOPE XUV 773帶有真空室的微型X射線熒光光譜儀

帶有真空室的微型X射線熒光光譜儀?,用于無(wú)損材料分析。視頻圖像支持在可編程X / Y / Z平臺(tái)上放置樣品

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FISCHERSCOPE® X-RAY XUV® 773 

帶有真空室的微型X射線熒光光譜儀,用于無(wú)損

材料分析。視頻圖像支持在可編程X / Y / Z平臺(tái)上放置樣品


FISCHERSCOPE X-RAY XUV儀器配有一個(gè)可抽真空的大型測(cè)量箱。其所裝備的大面積硅漂移探測(cè)器能夠探測(cè)低至1 keV的熒光輻射能量,從而能夠有效地測(cè)量元素Na、Mg以及元素Zn、Cu、Ni的L輻射。大孔徑準(zhǔn)直器的使用大幅提高了信號(hào)計(jì)數(shù)率,使儀器可以達(dá)到很小的重復(fù)精度和很低的測(cè)量下限。XUV非常適合測(cè)量很薄的鍍層和痕量分析。

        采用不同的準(zhǔn)直器和基本濾片組合,能夠保證每一次的測(cè)量都在*佳的條件下完成。在測(cè)量的同時(shí),可以直觀地查看測(cè)量點(diǎn)的影像。儀器測(cè)量空間寬大,樣品放置便捷,配合可編程的XYZ軸工作臺(tái),既適合測(cè)量平面、大型板材類樣品,也適合形狀復(fù)雜的樣品。并且使得連續(xù)測(cè)量分析鍍層厚度或元素分析也變得直觀而簡(jiǎn)單。儀器配有一個(gè)激光定位點(diǎn)作為輔助定位裝置,進(jìn)一步方便了樣品的快速定位基于儀器的通用設(shè)計(jì)以及真空測(cè)量箱所帶來(lái)的擴(kuò)展的測(cè)量能力,使得FISCHERSCOPE X-RAY XUV不僅可用于研究和開(kāi)發(fā),也非常適合過(guò)程控制和實(shí)驗(yàn)室使用


特征
    ? 帶鈹窗口的微聚焦X射線銠管,可選鎢管和鉬管。*高工作條件:50 kV, 50W
    ? X射線探測(cè)器采用珀?duì)柼吕涞墓杵铺綔y(cè)器
    ? 準(zhǔn)直器:4個(gè),可自動(dòng)切換,從直徑0.1mm到3mm
    ? 基本濾片:6個(gè),可自動(dòng)切換
    ? 可編程XYZ工作臺(tái)
    ? 攝像頭用來(lái)查看基本射線軸向方向的測(cè)量位置??潭染€經(jīng)過(guò)校準(zhǔn),顯示實(shí)際測(cè)量點(diǎn)大小。
    ? 可在真空,空氣或者氦氣的環(huán)境下工作


典型應(yīng)用領(lǐng)域
    ? 測(cè)量輕元素
    ? 測(cè)量超薄鍍層和痕量分析
    ? 常規(guī)金屬分析鑒定
    ? 非破壞式寶石分析
    ? 太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)


通用規(guī)格
設(shè)計(jì)用途
能量色散X射線熒光光譜儀(EDXRF)用于確定薄涂層,小結(jié)構(gòu),痕跡和合金。
元素范圍
鈉(11)到鈾U(92)–同時(shí)*多24種元素
設(shè)計(jì)理念
臺(tái)式單元,帶電動(dòng)開(kāi)口圓柱形真空室;外部真空泵;可編程電動(dòng)X / Y / Z樣品臺(tái);高分辨率彩色攝像機(jī),放大范圍廣
測(cè)量方向
向下
X射線源
X射線管
帶銠靶的微焦點(diǎn)X射線管(可選用鎢,鉬或其他靶材)
高壓
8 kV … 50 kV
孔徑(準(zhǔn)直器)
4倍可更改:?0.1毫米; ?0.6毫米 ?1毫米; ?3 mm(其他按需提供)
X射線探測(cè)
X射線接收器
硅漂移探測(cè)
電氣參數(shù)
電源要求
AC 115 V or AC 230 V 50 / 60 Hz
功率
max. 120 W (XUV 773 without evaluation PC and vacuum pump) 
保護(hù)等級(jí):
IP40
尺寸規(guī)格
外部尺寸
寬×深×高[mm]:640 x 640 x 760 mm 
內(nèi)部測(cè)量室尺寸
寬×深×高[mm]:400 x 390 
重量
ca. 120 kg 
環(huán)境要求
使用時(shí)溫度
10° C – 40°C / 50°F – 104°F 
存儲(chǔ)或運(yùn)輸時(shí)溫度
0° C – 50°C / 32°F – 122°F 
空氣相對(duì)濕度
≤ 95 %,無(wú)結(jié)露
工作臺(tái)
設(shè)計(jì)
電動(dòng)和快速可編程X / Y / Z樣品臺(tái)
行程
X-/ Y-/ Z-axis [mm]:100 x 100 x 100 
重復(fù)性X / Y / Z
≤ 0,01 mm (uni-directional) 
可用樣品放置區(qū)
Width x depth [mm]: 135 x 135 
樣品*大重量
≤ 1 kg 
樣品*大高度
100 mm 



應(yīng)用實(shí)例:

種類、來(lái)源和真實(shí)性,是評(píng)估寶石價(jià)值的本質(zhì)特征;而寶石材質(zhì)的分析結(jié)果則是影響判斷的決定性因素。通常,寶石的主要成份是鋁和硅的氧化物,還會(huì)伴隨有鎂和鈉等元素。另外, Cr、Fe、Ga等微量元素也是很重要的。XUV可以分析所有必要元素的光譜圖。在多個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用中,非常薄的Al鍍層、Si鍍層、氧化鋁鍍層和氧化硅鍍層正在變得原來(lái)越重要。在真空環(huán)境中鍍層厚度的測(cè)量結(jié)果有顯著的提高。使用XUV來(lái)測(cè)量這些鍍層,重復(fù)精度僅幾個(gè)納米。

土壤標(biāo)本、灰質(zhì)樣本、礦礦物

寶石:陣列 Al2O3, SiO2

寶石分析

晶片:Al/Si-晶片

寶石:痕量分析Cr, Fe, Ti, Ga,...

非破壞式寶石分析





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