帶有真空室的微型X射線熒光光譜儀?,用于無(wú)損材料分析。視頻圖像支持在可編程X / Y / Z平臺(tái)上放置樣品
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FISCHERSCOPE® X-RAY XUV® 773
帶有真空室的微型X射線熒光光譜儀,用于無(wú)損
材料分析。視頻圖像支持在可編程X / Y / Z平臺(tái)上放置樣品
FISCHERSCOPE X-RAY XUV儀器配有一個(gè)可抽真空的大型測(cè)量箱。其所裝備的大面積硅漂移探測(cè)器能夠探測(cè)低至1 keV的熒光輻射能量,從而能夠有效地測(cè)量元素Na、Mg以及元素Zn、Cu、Ni的L輻射。大孔徑準(zhǔn)直器的使用大幅提高了信號(hào)計(jì)數(shù)率,使儀器可以達(dá)到很小的重復(fù)精度和很低的測(cè)量下限。XUV非常適合測(cè)量很薄的鍍層和痕量分析。
采用不同的準(zhǔn)直器和基本濾片組合,能夠保證每一次的測(cè)量都在*佳的條件下完成。在測(cè)量的同時(shí),可以直觀地查看測(cè)量點(diǎn)的影像。儀器測(cè)量空間寬大,樣品放置便捷,配合可編程的XYZ軸工作臺(tái),既適合測(cè)量平面、大型板材類樣品,也適合形狀復(fù)雜的樣品。并且使得連續(xù)測(cè)量分析鍍層厚度或元素分析也變得直觀而簡(jiǎn)單。儀器配有一個(gè)激光定位點(diǎn)作為輔助定位裝置,進(jìn)一步方便了樣品的快速定位基于儀器的通用設(shè)計(jì)以及真空測(cè)量箱所帶來(lái)的擴(kuò)展的測(cè)量能力,使得FISCHERSCOPE X-RAY XUV不僅可用于研究和開(kāi)發(fā),也非常適合過(guò)程控制和實(shí)驗(yàn)室使用
特征
? 帶鈹窗口的微聚焦X射線銠管,可選鎢管和鉬管。*高工作條件:50 kV, 50W
? X射線探測(cè)器采用珀?duì)柼吕涞墓杵铺綔y(cè)器
? 準(zhǔn)直器:4個(gè),可自動(dòng)切換,從直徑0.1mm到3mm
? 基本濾片:6個(gè),可自動(dòng)切換
? 可編程XYZ工作臺(tái)
? 攝像頭用來(lái)查看基本射線軸向方向的測(cè)量位置??潭染€經(jīng)過(guò)校準(zhǔn),顯示實(shí)際測(cè)量點(diǎn)大小。
? 可在真空,空氣或者氦氣的環(huán)境下工作
典型應(yīng)用領(lǐng)域
? 測(cè)量輕元素
? 測(cè)量超薄鍍層和痕量分析
? 常規(guī)金屬分析鑒定
? 非破壞式寶石分析
? 太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)
通用規(guī)格 |
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設(shè)計(jì)用途 |
能量色散X射線熒光光譜儀(EDXRF)用于確定薄涂層,小結(jié)構(gòu),痕跡和合金。 |
元素范圍 |
鈉(11)到鈾U(92)–同時(shí)*多24種元素 |
設(shè)計(jì)理念 |
臺(tái)式單元,帶電動(dòng)開(kāi)口圓柱形真空室;外部真空泵;可編程電動(dòng)X / Y / Z樣品臺(tái);高分辨率彩色攝像機(jī),放大范圍廣 |
測(cè)量方向 |
向下 |
X射線源 |
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X射線管 |
帶銠靶的微焦點(diǎn)X射線管(可選用鎢,鉬或其他靶材) |
高壓 |
8 kV … 50 kV |
孔徑(準(zhǔn)直器) |
4倍可更改:?0.1毫米; ?0.6毫米 ?1毫米; ?3 mm(其他按需提供) |
X射線探測(cè) |
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X射線接收器 |
硅漂移探測(cè)器 |
電氣參數(shù) |
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電源要求 |
AC 115 V or AC 230 V 50 / 60 Hz |
功率 |
max. 120 W (XUV 773 without evaluation PC and vacuum pump) |
保護(hù)等級(jí): |
IP40 |
尺寸規(guī)格 |
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外部尺寸 |
寬×深×高[mm]:640 x 640 x 760 mm |
內(nèi)部測(cè)量室尺寸 |
寬×深×高[mm]:400 x 390 |
重量 |
ca. 120 kg |
環(huán)境要求 |
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使用時(shí)溫度 |
10° C – 40°C / 50°F – 104°F |
存儲(chǔ)或運(yùn)輸時(shí)溫度 |
0° C – 50°C / 32°F – 122°F |
空氣相對(duì)濕度 |
≤ 95 %,無(wú)結(jié)露 |
工作臺(tái) |
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設(shè)計(jì) |
電動(dòng)和快速可編程X / Y / Z樣品臺(tái) |
行程 |
X-/ Y-/ Z-axis [mm]:100 x 100 x 100 |
重復(fù)性X / Y / Z |
≤ 0,01 mm (uni-directional) |
可用樣品放置區(qū) |
Width x depth [mm]: 135 x 135 |
樣品*大重量 |
≤ 1 kg |
樣品*大高度 |
100 mm |
種類、來(lái)源和真實(shí)性,是評(píng)估寶石價(jià)值的本質(zhì)特征;而寶石材質(zhì)的分析結(jié)果則是影響判斷的決定性因素。通常,寶石的主要成份是鋁和硅的氧化物,還會(huì)伴隨有鎂和鈉等元素。另外, Cr、Fe、Ga等微量元素也是很重要的。XUV可以分析所有必要元素的光譜圖。在多個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用中,非常薄的Al鍍層、Si鍍層、氧化鋁鍍層和氧化硅鍍層正在變得原來(lái)越重要。在真空環(huán)境中鍍層厚度的測(cè)量結(jié)果有顯著的提高。使用XUV來(lái)測(cè)量這些鍍層,重復(fù)精度僅幾個(gè)納米。
土壤標(biāo)本、灰質(zhì)樣本、礦礦物 |
寶石:陣列 Al2O3, SiO2 |
寶石分析 |
晶片:Al/Si-晶片 |
寶石:痕量分析Cr, Fe, Ti, Ga,... |
非破壞式寶石分析 |
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