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斯派克ARCOS ICP-OES在工業(yè)和學術(shù)應(yīng)用方面表現(xiàn)優(yōu)異，廣泛應(yīng)用于金屬、化學品、石化產(chǎn)品和其他材料的高級元素分析。作為一種快速、簡便和精確的分析工具與手段，ICP-OES (電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀)被廣泛地應(yīng)用在各種元素分析的領(lǐng)域。然而，目前商品化的ICP-OES,由于其內(nèi)在結(jié)構(gòu)和性能的局限，無法滿足愈來愈復雜的元素分忻需求。SPECTRO ARCOS以其獨具匠心的創(chuàng)新性設(shè)計，可極好的滿足研發(fā)、工業(yè)、環(huán)保、石化、地質(zhì)、生化等領(lǐng)域的用戶需要，尤其適合復雜基體樣品的分析。

SPECTRO ARCOS可以方便的安裝在任何實驗室中，儀器的表面經(jīng)過特殊的防腐處理，而且在整個進樣室內(nèi)部也覆蓋有耐強腐蝕液體的保護膜。所有的部件和水電氣接頭都分別獨自放置，無須使用者拆裝儀器，維護和保養(yǎng)更加方便。SPECTRO ARCOS提供兩種觀測模式:軸向(水平)觀測和徑向(垂直)觀測，新的帕邢-龍格光學系統(tǒng)在130nm到340nm波長范圍內(nèi)均可保持恒定的分辨率。光學系統(tǒng)優(yōu)化的帕邢-龍格光學系統(tǒng)，再加上由鋁合金所鑄造的基座，為ICP技術(shù)創(chuàng)造了一個里程碑，它擁有史無前例的性能，在130nm到340nm光譜范圍里像素分辨率是3pm,340nm或以上的光譜范圍里像素是6pm。這種固定的分辨率值只能在帕邢-龍格光學系統(tǒng)上實現(xiàn)，它的優(yōu)勢在于能夠以高分辨率的模式分析復雜基體(富譜線光譜)，從而改善測量的精度。

新型SPECTRO ARCOS ICP-OES分析儀代表電感耦合等離子光學發(fā)射光譜儀效率和性能的新巔峰
?以一當二：市場w一的MultiView等離子儀器，同一臺儀器同時具備真正軸向與真正徑向等離子觀測
?ORCA光學系統(tǒng): 130-770nm波長范圍內(nèi)光譜的元素同時測定，靈敏度五倍于Echelle系統(tǒng)——提供紫外線/真空紫外線范圍的同級z佳性能

斯派克ARCOS ICP-OES在工業(yè)和學術(shù)應(yīng)用方面表現(xiàn)優(yōu)異，廣泛應(yīng)用于金屬、化學品、石化產(chǎn)品和其他材料的高級元素分析。采用無觀察鏡MultiView機制，可在90秒或更短時間內(nèi)從徑向觀測切換為軸向觀測。

激發(fā)光源：
激發(fā)光源采用風冷式陶瓷振蕩管和高精度固態(tài)電源，頻率為27. 12MHz,輸出功率為0.7至1.7KW，保證了SPECTRO ARCOS的等離子體有異乎尋常的穩(wěn)定性。免維護的激發(fā)光源無需任何電子或移動元件協(xié)助運行，可獨自調(diào)整共振頻率以適應(yīng)各種樣品，在測量各種變化很大的基體時，等離子體也可保持穩(wěn)定。相對于40.68MHz，27. 12MHz擁有更大的頻寬以適應(yīng)各種基體復雜的樣品。在進行大負荷(如:有機樣品等)樣品分析時,-般需要消耗很大的功率，但是SPECTROARCOS的高頻陶瓷振蕩管以及完全由計算機控制的高精度固態(tài)電源,可有效降低功率消耗，減少能量損失，提高耦合效率和延長系統(tǒng)壽命。在等候情況下，操作者可選擇“待機模式”以減少功率和氬氣的消耗。

等離子體接口：
水平觀測模式*適合進行痕量元素分析，**的Optical Plasma Interface(OPI)接口，能有效提高靈敏度，可獲得比垂直觀測模式好十倍的檢出限。傳統(tǒng)的ICP在水平觀測模式時會采用“尾焰切割”或“延長炬管”來消除基體干擾的問題，而OPI則是直接穿透等離子體,把尾焰吹開，徹底消除基體干擾。如果沒有OP,在同時處理各種變化很大的基體時，尤其是在環(huán)保方面的樣品，會使得等離子體處于不穩(wěn)定狀態(tài)，并造成不良影響，例如回收率變差。借助十多年的實際應(yīng)用經(jīng)驗，OPI 在經(jīng)過進一步的改進后， 簡化了維護，并可確保精確。

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